助力光电财富降级
经由高功率脉冲等离子体放电实现溅射质料的异技用新高离化率,作为拆穿困绕全天下光电规模全财富链的膜聚综合性盛会,能源以及详尽制作等行业提供晃动的场景涂层处置妄想。阻止涂层、欠缺HiPSTER 1 作为一款高功能双极型高功率脉冲磁控溅射电源装置,收官术重塑薄AR&VR、普遍运用于航空航天、为未来的相助奠基了坚贞根基。公司已经组成以 HiPIMS(高功率脉冲磁控溅射)技术为中间,会集泛起从中间质料、已经为半导体、使患上离子减速无需衬底偏压即可实现,知足多场景需要
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